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液态光阻(湿膜)
大东树脂液态光阻(湿膜)，主要应用于印刷电路板(PCB)线路影像转移与制作，具有高感度、高解像力特性，适合细线路印刷电路板内层板之大量生产， 表面硬度高、叠板性优异，曝光后颜色对比明显，便于线路检查，浸涂型(Dip)和雷射曝光型液膜，更能满足客户在极细线路生产之需求。可配合客户不同 涂布型式设备，设计开发专用液膜。
| 产品品名 | LP7609H | LP7803D1 | LP7901V | LP7605V | |
|---|---|---|---|---|---|
| 产品物性 | 型态别 | 无填充料 | 无填充料 | 无填充料 | 无填充料 |
| 外观 | 蓝色 | 蓝色 | 无色透明或淡紫色 | 蓝色 | |
| 固成份/ % | 37-41 | 24-28 | 38-42 | 37-41 | |
| 黏度/ Cps 25℃ | 1300~1700 | 50~100 | 1400~2000 | 1800~2200 | |
| 特性&应用 |
水平涂布 曝光后颜色对比明显便于线路检查。 |
浸涂涂布 适合极细线路之大量生产，曝光后颜色对比明显便于线路检查。 |
雷射曝光 适合极细线路之大量生产，曝光后颜色对比明显便于线路检查。 |
垂直涂布 曝光后颜色对比明显便于线路检查。 |
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| 操作使用条件 | 操作方式 | 水平滚涂式涂布机 | 浸涂式涂布机 | 垂直滚涂式涂布机 | 垂直滚涂式涂布机 |
| 烘干温度与时间 |
90~110℃ 6~8 min |
90~110℃ 6~10 min |
90~110℃ 6~8 min |
90~110℃ 6~8 min |
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| 曝光度 |
Stouffer 21 Step (100±10 mj/cm2) 6±1 |
Stouffer 21 Step (100±10 mJ/cm2) 6±1 |
Stouffer 21 Step (20±5 mj/cm2, 365 or 405nm), 6±1 |
Stouffer 21 Step (100±10 mj/cm2) 6±1 |
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| 显像 |
0.75±0.25﹪Na2CO3，30±2℃ 1.4~2.0 kg/cm2，40~50 sec |
0.75±0.25﹪Na2CO3，30±2℃ 1.4~2.0 kg/cm2，40~50 sec |
0.75±0.25﹪Na2CO3，30±2℃ 1.4~2.0 kg/cm2，40~50 sec |
0.75±0.25﹪Na2CO3，30±2℃ 1.4~2.0 kg/cm2，40~50 sec |
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| 干后特性 |
烘干后干膜厚度 〈建议值〉 |
8~12μm | 8~12μm | 8~12μm | 8~12μm |
| 密着性(百格测试) | 100/100 | 100/100 | 100/100 | 100/100 | |
| 硬度 |
烘干后：HB、 曝光后 ：4H、 显像后 ：3H |
烘干后 ：HB～F、 曝光后 ：4H、 显像后 ：3H |
烘干后 ：HB、 曝光后 ：4H、 显像后 ：3H |
烘干后 ：HB、 曝光后 ：4H、 显像后 ：3H |
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| 耐刮性 | 良好 | 良好 | 良好 | 良好 | |
| 叠板性 | 良好 | 良好 | 良好 | 良好 |
