高真空離子镀膜机 | PRM 塑胶机械采购平台

分类: 金属镀膜

DAH YOUNG VACUUM TECHNICAL GROUP

国家: Taiwan

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高功率脉冲磁控溅镀系统(HiPIMS，High Power Impulse Magnetron Sputtering) 是一种以高功率脉冲电源进行磁控溅镀的技术，透过产生比传统直流溅镀模式要高上数十倍之瞬间脉冲电流，得到比直流溅镀要高上百倍至万倍的高电子密度电浆，而此HIPIMS镀膜系统可有效提高被溅射粒子的离化率，并可在低基材温度下得到无孔隙、致密度高、结晶性佳的薄膜。

产品名称	DYAC-PVD 高真空離子镀膜机
產品型號	DYAC-1200-HLS
适用基质	金属、陶瓷、硅、玻璃、塑料
涂层技术	HiPIMS高功率脉冲磁控溅镀
涂层材料	依制程而定
涂层颜色	依制程而定
腔室材质	不锈钢SUS304
操作系统	IPC & PLC
腔体直径	Ø1200mm
腔体高度	H1200mm
自转轴数	6~12轴(依制程而定)
有效镀膜直径	Ø960mm
有效镀膜高度	H850mm
镀膜方式	HiPIMS高功率脉冲磁控溅镀与阴极电弧镀
溅镀源数量	6支
溅镀电源功率(kW)	20kW
极限真空(Torr)	5*10E-6 Torr
制程周期	依制程而定
需求电源	3 Phase/380V/170kW/50-60Hz

(1) 全自动化控制(IPC & PLC)，复合式多层膜镀膜系统。

(2) 可选用多种镀膜方式(阴极电弧、磁控溅镀、离子源、HiPIMS)满足各种膜层沉积需求。

(3) 低置式腔体搭配行星式公自转机构，适合各种尺寸工件大批量镀膜生产。

(4) 符合欧盟CE安全标准与技术规范（选配）。

(5) PVD涂层特性：
• 高耐磨性
• 高工作温度下维持高硬度
• 高抗氧化性
• 低摩擦系数
• 抗沾粘
• 耐刮伤
• 各种表面颜色

光电、半导体、能源、机械加工、模具、生医...等领域。