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高真空離子镀膜机

分类: 金属镀膜
国家: Taiwan
电话: 886-4-2639-2808
传真: 886-4-2639-2810
联络人: Jessica Wo
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高功率脉冲磁控溅镀系统(HiPIMS,High Power Impulse Magnetron Sputtering) 是一种以高功率脉冲电源进行磁控溅镀的技术,透过产生比传统直流溅镀模式要高上数十倍之瞬间脉冲电流,得到比直流溅镀要高上百倍至万倍的高电子密度电浆 ,而此HIPIMS镀膜系统可有效提高被溅射粒子的离化率,并可在低基材温度下得到无孔隙、致密度高、结晶性佳的薄膜。
 产品名称  DYAC-PVD 高真空離子镀膜机
 產品型號  DYAC-1200-HLS
 适用基质  金属、陶瓷、硅、玻璃、塑料
 涂层技术  HiPIMS高功率脉冲磁控溅镀
 涂层材料  依制程而定
 涂层颜色  依制程而定
 腔室材质  不锈钢SUS304
 操作系统  IPC & PLC
 腔体直径  Ø1200mm
 腔体高度  H1200mm
 自转轴数  6~12轴(依制程而定)
 有效镀膜直径  Ø960mm
 有效镀膜高度  H850mm
 镀膜方式  HiPIMS高功率脉冲磁控溅镀与阴极电弧镀
 溅镀源数量  6支
 溅镀电源功率(kW)  20kW
 极限真空(Torr)  5*10E-6 Torr
 制程周期 依制程而定
 需求电源 3 Phase/380V/170kW/50-60Hz

(1) 全自动化控制(IPC & PLC),复合式多层膜镀膜系统。

(2) 可选用多种镀膜方式(阴极电弧、磁控溅镀、离子源、HiPIMS)满足各种膜层沉积需求。

(3) 低置式腔体搭配行星式公自转机构,适合各种尺寸工件大批量镀膜生产。

(4) 符合欧盟CE安全标准与技术规范(选配)。

(5) PVD涂层特性:
• 高耐磨性
• 高工作温度下维持高硬度
• 高抗氧化性
• 低摩擦系数
• 抗沾粘
• 耐刮伤
• 各种表面颜色